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PACVD技術(shù)簡介：

PACVD等離子體輔助化學(xué)氣相沉積工藝允許在低于200度的溫度條件下沉積類金剛石涂層。它能改善呢關(guān)鍵表面的摩擦性能，增強(qiáng)磨損保護(hù)。由于CVD和等離子體技術(shù)結(jié)合生產(chǎn)的高能量。工藝提供良好的附著力、均勻表面和高表面質(zhì)量。由于沉積溫度低，大量基材如硬化剛、鋁、鈦合金、硬金屬、陶瓷、超合金等均能被涂覆。ADLC涂層已經(jīng)成功應(yīng)用于紡織、醫(yī)藥、發(fā)動(dòng)機(jī)工業(yè)、量具、泵、密封、閥門和精密制造等領(lǐng)域。

PACVD工作原理：

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技術(shù)簡介

PACVD技術(shù)

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