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致力于高端涂層技術的研究和推廣
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隨之近幾年來粉末制作公司的磨粒WC粉末狀制造技術及硬質(zhì)合金刀具生產(chǎn)商與鋁合金生產(chǎn)有關的微粒化技術的飛速發(fā)展，粒徑為0.4μm左右的WC超細顆粒硬質(zhì)合金也已投入市場。
PVD是物理學氣相沉積法（Physical Vapor Deposition）的統(tǒng)稱，它與CVD法的氣體在高溫下造成化學反應產(chǎn)生表面層薄膜不一樣，是選用電能等物理方式使金屬蒸發(fā)物造成離子做好涂層。與CVD對比，PVD涂層的特性如下：可在低溫下進行涂層，硬質(zhì)合金基材損傷較小，因此可在涂層時對基材進行挑選；CVD涂層有張力，因此在耐缺損這方面有不利之處，與之對比，PVD涂層造成壓縮力，有益于發(fā)展耐缺損特性，可用以具備鋒利切削刃的刀具制作。
真空PVD涂層加工技術起步時間段不長，國際上在上世紀六七十年代才冒出將CVD(化學氣相沉積)技術應用于硬質(zhì)合金刀具上。鑒于該技術需要高溫下進行(工藝氣溫高過1000℃)，涂層類型單一化，局限性挺大，為此，其發(fā)展趨勢前期難免不盡如人意。
如果您還想多了解一些有關PVD涂層的資訊，可以點擊PVD涂層網(wǎng)站頁面進行瀏覽！
隨之近幾年來粉末制作公司的磨粒WC粉末狀制造技術及硬質(zhì)合金刀具生產(chǎn)商與鋁合金生產(chǎn)有關的微?；夹g的飛速發(fā)展，粒徑為0.4μm左右的WC超細顆粒硬質(zhì)合金也已投入市場。
PVD是物理學氣相沉積法（Physical Vapor Deposition）的統(tǒng)稱，它與CVD法的氣體在高溫下造成化學反應產(chǎn)生表面層薄膜不一樣，是選用電能等物理方式使金屬蒸發(fā)物造成離子做好涂層。與CVD對比，PVD涂層的特性如下：可在低溫下進行涂層，硬質(zhì)合金基材損傷較小，因此可在涂層時對基材進行挑選；CVD涂層有張力，因此在耐缺損這方面有不利之處，與之對比，PVD涂層造成壓縮力，有益于發(fā)展耐缺損特性，可用以具備鋒利切削刃的刀具制作。
真空PVD涂層加工技術起步時間段不長，國際上在上世紀六七十年代才冒出將CVD(化學氣相沉積)技術應用于硬質(zhì)合金刀具上。鑒于該技術需要高溫下進行(工藝氣溫高過1000℃)，涂層類型單一化，局限性挺大，為此，其發(fā)展趨勢前期難免不盡如人意。
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